前田/日誌/2009-02-22
をテンプレートにして作成
[
トップ
] [
新規
|
一覧
|
単語検索
|
最終更新
|
ヘルプ
|
ログイン
]
開始行:
[[前田/日誌]]
-今日やったこと
--半導体デバイス
---多結晶ポリシリコン
---High-k,高誘電率ゲート絶縁膜
---Low-k
---SOI (Silicon on Insulator)
--コンピュータアーキテクチャ
---スーパースカラにおけるHyper Threading
-メモ
--Intel Technology Journalに見るIntelの45nm CMOSプロセス~
http://journal.mycom.co.jp/articles/2008/07/24/intel45nm/index.html
-戯言
--折角だから自分の新しく買ったマシンのCPU(Intel Q9650)の製造プロセスとアーキテクチャを調べてたら、なぜか半デバに回帰。
--MOSとか言っててもゲートにポリシリコン使ってるのを初めて知った。そんでHigh-kと相性が悪い(仕事関数の調整とか)から、結局メタルゲートとなった。
----
#comment
終了行:
[[前田/日誌]]
-今日やったこと
--半導体デバイス
---多結晶ポリシリコン
---High-k,高誘電率ゲート絶縁膜
---Low-k
---SOI (Silicon on Insulator)
--コンピュータアーキテクチャ
---スーパースカラにおけるHyper Threading
-メモ
--Intel Technology Journalに見るIntelの45nm CMOSプロセス~
http://journal.mycom.co.jp/articles/2008/07/24/intel45nm/index.html
-戯言
--折角だから自分の新しく買ったマシンのCPU(Intel Q9650)の製造プロセスとアーキテクチャを調べてたら、なぜか半デバに回帰。
--MOSとか言っててもゲートにポリシリコン使ってるのを初めて知った。そんでHigh-kと相性が悪い(仕事関数の調整とか)から、結局メタルゲートとなった。
----
#comment
ページ名: